অনেক ক্ষেত্রে, হার্ডওয়্যার ফাস্টেনারগুলির পৃষ্ঠের গ্লস উন্নত করার জন্য, পৃষ্ঠের চিকিত্সা - নিকেলের ইলেক্ট্রোপ্লেটিং সাধারণত ব্যবহৃত হয়। এই প্রক্রিয়া চলাকালীন, তামার আয়ন থাকবে, যা উজ্জ্বল নিকেল প্রলেপের সবচেয়ে সাধারণ অমেধ্যগুলির মধ্যে একটি। যদি কলাই দ্রবণ Cu2+ দ্বারা দূষিত হয়, তাহলে নিম্ন বর্তমান ঘনত্বের এলাকায় প্রলেপযুক্ত অংশগুলির উজ্জ্বলতা দুর্বল হবে। অতিরিক্ত Cu2+ও আবরণের ভঙ্গুরতা এবং দুর্বল বন্ধনের কারণ হবে।
তাহলে হার্ডওয়্যার ফাস্টেনারগুলির কলাই সমাধান থেকে কীভাবে অমেধ্য অপসারণ করবেন? চায়না স্ট্যান্ডার্ড পার্টস নেটওয়ার্ক এটিকে নিম্নরূপ সংক্ষিপ্ত করে:
ইলেক্ট্রোলাইসিস পদ্ধতি: একটি পদ্ধতি যা ক্যাথোড প্লেটে প্রলেপ দ্রবণে Cu{{0}} জমা করার জন্য কম বর্তমান ঘনত্ব ব্যবহার করে। প্রক্রিয়াকরণের জন্য তিন ধরনের ক্যাথোড প্লেট ব্যবহার করা হয়: ঢেউতোলা প্লেট, স্যুটুথ প্লেট এবং ফ্ল্যাট প্লেট। যখন তড়িৎ বিশ্লেষণের জন্য ঢেউতোলা প্লেটে একটি নির্দিষ্ট কারেন্ট প্রয়োগ করা হয়, তখন ক্যাথোড প্লেটের Jκ পরিসর আরও প্রশস্ত হয়, যার শীর্ষে একটি বড় Jκ এবং ট্রফটিতে একটি ছোট Jκ থাকে, তাই Cu2+ এবং অন্যান্য ধাতব অমেধ্যগুলি হতে পারে একাধিক অমেধ্য অপসারণের উদ্দেশ্য অর্জন করতে একই সময়ে জমা করা হবে। জিগজ্যাগ ক্যাথোড প্লেট * প্রভাব দ্বারা প্রভাবিত হয়। ইলেক্ট্রোলাইসিস প্রক্রিয়া চলাকালীন Ni2+ এবং Cu2+ একই সময়ে জমা হয়, যার ফলে প্লেটিং দ্রবণে নিকেল লবণের ক্ষতি হয়। একটি ফ্ল্যাট ক্যাথোড ব্যবহার করে বেছে বেছে ধাতব অমেধ্য অপসারণের উদ্দেশ্য অর্জন করতে বিভিন্ন Jκ ব্যবহার করতে পারে। অভিজ্ঞতা অনুসারে, যখন Jκ 0.5A/dm2 হয়, তখন এটি Cu2+-এর পক্ষে ক্যাথোডে বর্ষণ করা উপকারী।
ইলেক্ট্রোলাইসিস চিকিৎসার জন্য যে ধরনের ক্যাথোড ব্যবহার করা হোক না কেন, বেশ কয়েকটি বিষয়ের প্রতি মনোযোগ দেওয়া উচিত: ক. দীর্ঘমেয়াদী ইলেক্ট্রোলাইসিস ট্রিটমেন্টের সময়, ইলেক্ট্রোলাইটিক প্লেটকে নিয়মিত পরিষ্কার করতে হবে যাতে ইলেক্ট্রোলাইটিক প্লেটের আলগা আবরণ পড়ে না যায় এবং প্লেটিং দ্রবণকে পুনরায় দূষিত না করে; খ. ক্যাথোড আন্দোলন বা বায়ু নাড়া ব্যবহার চিকিত্সা প্রভাব উন্নত করতে পারে; গ. ইলেক্ট্রোলাইসিস চিকিত্সায় ব্যবহৃত অ্যানোড প্লেটটি অবশ্যই একটি উচ্চ-মানের নিকেল অ্যানোড প্লেট হতে হবে, অন্যথায় চিকিত্সার প্রভাব প্রভাবিত হবে এবং অপ্রয়োজনীয় বর্জ্য সৃষ্টি হবে।
রাসায়নিক প্রিপিপিট্যান্ট পদ্ধতি: সাধারণ একটি হল QT তামা অপসারণ এজেন্ট। এই প্রিপিপিট্যান্টের প্রধান উপাদান হল ফেরোসায়ানাইড। এটি কপার ফেরোসায়ানাইড অবক্ষেপণের জন্য প্রলেপ দ্রবণে Cu2+ এর সাথে একত্রিত হয়, এবং তারপর তামার অমেধ্য অপসারণের উদ্দেশ্য অর্জনের জন্য অবক্ষেপকে ফিল্টার করে। এই পদ্ধতির অসুবিধা হল যে এটির সঠিক পরিস্রাবণ প্রয়োজন, যা সময়সাপেক্ষ।
চেলেটিং এজেন্ট পদ্ধতি: চেলেটিং এজেন্ট হল সাধারণত সুগন্ধি রিং বা হেটেরোসাইক্লিক স্ট্রাকচার সহ জৈব পদার্থ, যা প্রলেপ দ্রবণে Cu2+ দিয়ে চেলেট তৈরি করে। যেহেতু ইলেক্ট্রোলাইসিসের সময় চেলেট এবং নি2+ একসাথে জমা হয়, তাই প্রলেপ দ্রবণে ρ(Cu2+) হতে পারে এটি খুব বেশি উপরে উঠবে না। এই পদ্ধতিটি সহজ এবং প্রয়োগ করা সহজ, এবং বর্তমানে নিকেল প্লেটিং দ্রবণে অমেধ্য চিকিত্সার জন্য একটি ভাল এবং আরও কার্যকর পদ্ধতি। উচ্চ-মানের চেলেটিং এজেন্ট অবশ্যই প্রয়োগের সময় নির্বাচন করতে হবে, বিশেষ করে নিশ্চিত করতে যে তারা আবরণে কোন বিরূপ প্রভাব না ফেলে।
